就
是
對(duì)
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個(gè)產(chǎn)品，
做到極致認(rèn)真
致
每一組數(shù)據(jù)
-
智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級(jí)無(wú)塵烘箱
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氮?dú)夂嫦?，精密充氮烘?/div>LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱（PI烤箱）真空無(wú)氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱精密烤膠臺(tái)，高精度烘膠機(jī)超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
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HMDS(六甲基二硅氮烷)表面處理的應(yīng)用
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理的工藝是勻膠前襯底“增附"處理。在光刻中，通常會(huì)用到一些例如藍(lán)寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類(lèi)襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想，這會(huì)導(dǎo)致后續(xù)的光刻顯影環(huán)節(jié)出現(xiàn)“裂紋"甚至是漂膠等問(wèn)題。因此必須通過(guò)工藝手段改善，這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏，也稱(chēng)為HMDS預(yù)處理。
HMDS(六甲基二硅氮烷)表面處理設(shè)備
JS-HMDS90 是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在箱內(nèi)先經(jīng)過(guò)100℃-200℃的去水烘烤，再進(jìn)行HMDS處理，不需要從箱內(nèi)傳出，而接觸到空氣，晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低，所以有更好的處理效果。
HMDS(六甲基二硅氮烷)表面處理設(shè)備將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。
HMDS藥液低液位報(bào)警：
自動(dòng)吸取HMDS：
可自動(dòng)添加HMDS：
HMDS藥液泄漏報(bào)警：
HMDS氣體管路加熱系統(tǒng)：
參數(shù)記錄功能：
溫度與程序互鎖功能：
容積大小：350*350*350/450*450*450（mm）可定制
溫度范圍：RT+10-250℃
真空度：≤133pa（1torr）
控制系統(tǒng);人機(jī)界面+PLC
擱板層數(shù):2層
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