就
是
對
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個產(chǎn)品，
做到極致認(rèn)真
致
每一組數(shù)據(jù)
-
智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級無塵烘箱
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氮氣烘箱，精密充氮烘箱
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LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮氣烘箱
-
熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱
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HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )
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智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）
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真空無氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱
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精密烤膠臺，高精度烘膠機(jī)
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超低溫試驗箱，零下-120度高低溫箱
產(chǎn) 品 中 心
products
濕法腐蝕和濕法清洗在很早以前就已在半導(dǎo)體生產(chǎn)上被廣泛接受和使用，許多濕法工藝顯示了其優(yōu)越的性能。硅片清洗也顯得尤為重要.濕法腐蝕是一種半導(dǎo)體生產(chǎn)中實現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移的工藝,由于其高產(chǎn)出,低成本,高可靠性以及有很高的選擇比仍被廣泛應(yīng)用.
刻蝕機(jī)，濕法刻蝕機(jī)用途：
清洗、顯影、腐蝕、自動氫氟酸清洗臺、去膠臺等，該系列設(shè)備主機(jī)選用進(jìn)口磁白PP防腐材料，結(jié)構(gòu)美觀，潔凈度高?？蛇x配QDR清洗槽、三級清洗槽、超聲清洗槽以及石英、NPP、PTFE、PVDF、316不銹鋼等材質(zhì)的槽體?？商峁┻m用于2-12英寸晶片的濕法工作，是半導(dǎo)體制作工藝的理想設(shè)備。清洗機(jī)有自動、手動系列產(chǎn)品。用于半導(dǎo)體芯片、襯底片的清洗及濕法腐蝕、去膠、去蠟、剝離等工藝的專用設(shè)備。
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