就
是
對(duì)
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個(gè)產(chǎn)品，
對(duì)待每一
做到極致認(rèn)真
每一個(gè)零件
細(xì)
致
致
每一組數(shù)據(jù)
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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級(jí)無(wú)塵烘箱
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氮?dú)夂嫦?，精密充氮烘?/div>LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱（PI烤箱）真空無(wú)氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱精密烤膠臺(tái)，高精度烘膠機(jī)超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
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HMDS烤箱，HMDS真空烘箱
發(fā)布時(shí)間: 2022-05-27 14:28
HMDS烤箱，HMDS真空烘箱的由來(lái)
半導(dǎo)體工藝中需要在各種襯底上進(jìn)行光刻膠涂布，黏附性是否良好是最大的問(wèn)題。黏附差導(dǎo)致嚴(yán)重的側(cè)面腐蝕，線條變寬，甚至有可能導(dǎo)致圖形全部消失，濕法刻蝕技術(shù)要求光刻膠與下面的襯底有很好的黏附性。
提高光刻膠與襯底之間的黏附力有多個(gè)步驟：
a、涂膠前進(jìn)行脫水堅(jiān)膜;
b、使用黏附促進(jìn)劑，即HMDS(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布;
c、高溫后烘。
完成以上工藝僅用我司生產(chǎn)的HMDS真空烘箱即可。
HMDS烤箱，HMDS真空烘箱
溫度范圍：RT+10-250℃
真空度：≤133pa（1torr）
控制儀表：人機(jī)界面，一鍵運(yùn)行
儲(chǔ)液瓶：HMDS儲(chǔ)液量1000ml
真空泵：無(wú)油渦旋真空泵
HMDS真空烘箱也稱為智能型HMDS真空系統(tǒng) 將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
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