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工
作
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對待每一
做到極致認真
每一個零件
細
致
致
每一組數據
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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級無塵烘箱
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氮氣烘箱，精密充氮烘箱
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LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮氣烘箱
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熱風循環(huán)真空烘箱，高溫熱風真空烤箱
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智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）
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小型蒸發(fā)鍍膜儀
發(fā)布時間: 2022-04-12 10:18
小型蒸發(fā)鍍膜儀用途
用于真空蒸發(fā)鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬 膜，主要用于蒸鍍電極及有機半導體材料的物理化學性能研究實驗研究 。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發(fā)。
小型蒸發(fā)鍍膜儀主要技術參數
真空腔室尺寸：Φ300*H400mm,預留膜厚儀接口304不銹鋼材料，圓柱式，門上配有觀察窗；
真空系統(tǒng)： 分子泵 +直聯旋片泵+高真閥門； “一低一高”數顯復合真空計；
極限真空： 真空極限優(yōu)于 5×10-5Pa ；
溫度范圍： RT-600/1600℃，可調可控；
基片臺尺寸：最大可鍍基片尺寸/面積：Φ100mm 范圍內可裝卡各種規(guī)格配 套相應樣品架可固定各類不銹鋼掩膜板。
基片臺旋轉:0-20 轉/分鐘，可調可控；
蒸發(fā)源及電源：水冷蒸發(fā)電極，金屬蒸發(fā)電源；
控制方式：PLC+觸摸屏,自動控制；
報警及保護：對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執(zhí)行相應保護措施；完善的邏輯程序互鎖保護系統(tǒng)；
設備配電： AC220V/50HZ ,功率：3.5KW；
設備尺寸：長×寬×高:500*360*420mm；
