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態(tài)
度
，
個產(chǎn)品，
做到極致認真
致
每一組數(shù)據(jù)
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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級無塵烘箱
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氮氣烘箱，精密充氮烘箱
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LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮氣烘箱
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熱風循環(huán)真空烘箱，高溫熱風真空烤箱
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HMDS預處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )
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智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）
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真空無氧固化爐，高溫無氧烘箱
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精密烤膠臺，高精度烘膠機
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超低溫試驗箱，零下-120度高低溫箱
新 聞 動 態(tài)
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近期，《發(fā)光學報》2021年第5期文章“基于LiF修飾層的噴墨打印鈣鈦礦發(fā)光二極管”被選為當期封面文章。《發(fā)光學報》執(zhí)行主編郝振東研究員特別邀請該篇文章的通訊作者李福山教授，對其進行封面故事專訪。
李福山教授圍繞封面文章中噴墨打印鈣鈦礦發(fā)光二極管（二極管無塵烘箱）方面的意義進行了深入解答，展望了噴墨打印鈣鈦礦發(fā)光二極管的未來前景，分享了其研究團隊近期其他相關工作和重要成果。本期，讓我們一起走進李福山教授研究團隊，了解封面文章背后的故事。
李福山（通訊作者）：噴墨打印技術是近幾年快速發(fā)展的技術之一，該技術與傳統(tǒng)實驗上使用的旋涂、刮涂相比材料利用率更高、更加適合大面積的產(chǎn)品制備；同時這種技術使溶液法制備高精度圖形化產(chǎn)品成為可能。目前這方面已經(jīng)有較多的研究，顯示出較好的應用前景。
另外值得注意的是，經(jīng)過近年來的研究，鈣鈦礦發(fā)光器件（PeLEDs）的外量子效率（EQE）已超過20%，有望作為新一代的發(fā)光光源應用于照明和顯示領域。然而，目前發(fā)光器件仍然局限于旋涂工藝，發(fā)光區(qū)域約為幾平方毫米。小發(fā)射面積明顯限制了它們的實用化進程，特別是阻礙了它們在顯示和固態(tài)照明中的應用。
為此，我們在前期噴墨打印量子點LED（LED芯片HMDS涂膠機）工作基礎上，結(jié)合噴印鈣鈦礦薄膜生長調(diào)控和發(fā)光器件結(jié)構設計，希望為噴墨打印鈣鈦礦發(fā)光器件的研究提供方向和突破。
目前，我們在《發(fā)光學報》發(fā)表的文章提出采用LiF界面修飾層實現(xiàn)打印鈣鈦礦薄膜均勻性和器件電荷輸運雙重調(diào)控，獲得了像素化均勻發(fā)射的PeLED；我們也在期刊Organic Electronics上發(fā)表了當前最高外量子效率（EQE）的打印鈣鈦礦發(fā)光器件（8.25l m/W, EQE 3.03%, 10 992 cd/m2，Organic Electronics, 2021, 93: 106168.），揭示了鈣鈦礦量子點在噴印過程中的堆垛成膜機制。相信這些工作會對相關研究起到啟示性作用。
鄭春波，鄭鑫，馮晨，倪梓全，鞠松蔓，李福山*，基于LiF修飾層的噴墨打印鈣鈦礦發(fā)光二極管[J]. 發(fā)光學報, 2021, 42(5):565-574. DOI：10.37188/CJL.20210058
論文網(wǎng)址
http://cjl.lightpublishing.cn/thesisDetails#10.37188/CJL.20210058
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