就
是
對
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個產(chǎn)品，
對待每一
做到極致認真
每一個零件
細
致
致
每一組數(shù)據(jù)
-
智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
-
潔凈烘箱，百級無塵烘箱
-
氮氣烘箱，精密充氮烘箱
-
LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮氣烘箱
-
熱風循環(huán)真空烘箱，高溫熱風真空烤箱
-
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )
-
智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）
-
真空無氧固化爐，高溫無氧烘箱
-
精密烤膠臺，高精度烘膠機
-
超低溫試驗箱，零下-120度高低溫箱
最新消息
熱搜：HMDS烘箱 無塵烤箱 無氧烤箱
新 聞 動 態(tài)
NEWS
濕法清洗設(shè)備的作用
來源:
|
作者:pro00ad5e
|
發(fā)布時間: 2016-04-26
|
2850 次瀏覽
|
分享到:
濕法清洗設(shè)備的應(yīng)用：
伴隨IC集成度的提高,硅片表面的潔凈度對于獲得IC器件高性能和高成品率至關(guān)重要。那么對清洗目的與要求就更嚴格。清洗是為減少沾污,因沾污會影響器件性能,導(dǎo)致可靠性問題,降低成品率，這就要求在每層的下一步工藝前或下一層前須進行徹底的清洗。由于有許多可能情形的沾污從而使清洗顯得很復(fù)雜。
濕法清洗設(shè)備的分類：
1：擦片（包括超聲擦片及高壓噴淋和機械擦片相結(jié)合）
2：濺射前自然氧化層的清洗(稀HF清洗)
3:化學(xué)清洗(主要是RCA 清洗及SH清洗和HF LAST 清洗)
濕法清洗設(shè)備常用的清洗藥液：
H2O2, Dilute HF , NH4OH , NH4F， H2SO4 , HCL ,Speciality Etchant EKC265，DMF ，ACT-CMI
MUNE
>網(wǎng)站首頁 >公司簡介 >產(chǎn)品中心 >新聞動態(tài)
>幫助文檔 >在線留言 >聯(lián)系我們
上海雋思實驗儀器有限公司 ? 版權(quán)所有 滬ICP備16022591號-3
Copyright ? 2012-2018 junsicn.com All Rights Reserved.
技術(shù)支持：上海雋思儀器
CONTACT US
tel：18016234441
EMALL：junsish@163.com
