就
是
對(duì)
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個(gè)產(chǎn)品，
做到極致認(rèn)真
致
每一組數(shù)據(jù)
-
智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
-
潔凈烘箱，百級(jí)無(wú)塵烘箱
-
氮?dú)夂嫦?，精密充氮烘?/div>LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱（PI烤箱）真空無(wú)氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱精密烤膠臺(tái)，高精度烘膠機(jī)超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
新 聞 動(dòng) 態(tài)
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在集成電路制造的光刻工藝中，為了保證光刻膠在晶圓處理過(guò)程中更好的完成圖形轉(zhuǎn)移，需要在晶圓上先進(jìn)行噴涂hmds預(yù)處理的工藝，將晶圓表面親水性的置換為疏水性的，使晶圓表面接觸角達(dá)到65或更高。
HMDS 可以通過(guò)旋轉(zhuǎn)稀釋溶液直接涂在晶片上，并允許 HMDS 旋轉(zhuǎn)干燥（HMDS 在室溫下非常易揮發(fā)）。如果 HMDS 不適當(dāng)干燥，則會(huì)導(dǎo)致顯著的附著力損失。雖然直接旋涂很容易，它僅在置換一小部分硅烷醇基團(tuán)時(shí)有效。迄今為止，施加增粘劑的優(yōu)選方法是將基材置于 HMDS 蒸汽中，通常是在升高溫度和降低壓力下。這樣在沒(méi)有過(guò)多 HMDS 沉積的情況下對(duì)基材進(jìn)行良好的涂覆，并且更高的溫度會(huì)導(dǎo)致與硅烷的反應(yīng)更完全。用 HMDS 正確處理后，基材可以放置數(shù)天而不會(huì)明顯重新吸附水。在同一HMDS氣相成底膜烘箱中進(jìn)行脫水烘烤和蒸汽灌注可提供最佳性能。
HMDS氣相成底膜烘箱適用產(chǎn)品
硅片、磷化銦lnP、砷化鎵GaAs、鈮酸鋰LiNbO?、硫化鋅ZnS、掩膜版、玻璃、石英片、藍(lán)寶石、晶圓、碳化硅等第三代、第四代半導(dǎo)體材料等。
HMDS氣相成底膜烘箱性能
HMDS藥液泄漏報(bào)警提示
HMDS低液位報(bào)警提示
工藝數(shù)據(jù)記錄功能
藥液管道預(yù)熱功能
程序鎖定保護(hù)等功能
產(chǎn)品兼容性：1-12寸產(chǎn)品、方片、碎片及大型面板（可定制）
溫度范圍：RT-200℃
真空度：1torr
操作方式：人機(jī)界面，一鍵運(yùn)行
HMDS控制：可控制HMDS 藥液添加量
真空泵：無(wú)油渦旋真空泵
附件功能：圖像反轉(zhuǎn)功能
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