就
是
對(duì)
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個(gè)產(chǎn)品，
對(duì)待每一
做到極致認(rèn)真
每一個(gè)零件
細(xì)
致
致
每一組數(shù)據(jù)
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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級(jí)無(wú)塵烘箱
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氮?dú)夂嫦?，精密充氮烘?/div>LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱（PI烤箱）真空無(wú)氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱精密烤膠臺(tái)，高精度烘膠機(jī)超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
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氮?dú)夂嫦湓谘谀ぐ婀に囍械膽?yīng)用
來(lái)源:
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作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部
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發(fā)布時(shí)間: 2024-01-08
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氮?dú)夂嫦洌谀ぐ搴嫦?
氮?dú)夂嫦?，掩膜板烘箱?yīng)用
在掩膜版的生產(chǎn)制造過(guò)程中，掩膜版基板在光阻涂布后會(huì)有一個(gè)烘烤的環(huán)節(jié)，又稱(chēng)為前烘。目的是用加熱蒸發(fā)的方式祛除掩膜版上光阻中多余的溶劑，增強(qiáng)光阻與掩膜版基板之間的粘附力，并使光阻起到固化的作用；同時(shí)，涂覆光阻后的掩膜版在曝光顯影后也需要做顯影后烘，目的是祛除掩膜版上多余的水分、殘留溶劑和消除駐波效應(yīng)。
掩膜版制作工藝，包括如下步驟：S1、涂膠：提供一光學(xué)高分子PC復(fù)合板材，在所述光學(xué)高分子PC復(fù)合板材表面旋涂抗反射中性密著層，在所述抗反射中性密著層上旋涂中性UV光刻膠；S2、光刻：通過(guò)光刻直寫(xiě)掩膜機(jī)對(duì)中性UV光刻膠進(jìn)行激光曝光；S3、顯影：將光刻后的光學(xué)高分子PC復(fù)合板材置于一顯影槽進(jìn)行浸泡顯影，所述顯影槽內(nèi)設(shè)有顯影液；S4、堅(jiān)膜。
氮?dú)夂嫦?/strong>，掩膜板烘箱性能
全周激光滿焊，SUS304＃不銹鋼電熱產(chǎn)生器，防機(jī)臺(tái)本身產(chǎn)生微塵；
采用特殊風(fēng)道，水平送風(fēng)，溫度均勻性佳；
可定值運(yùn)行，多段程序運(yùn)行；
設(shè)備采用雙腔室一體設(shè)計(jì)，獨(dú)立控制，節(jié)省空間；
溫度范圍： RT+10～200、300/400℃；
溫度均勻度：≤±1.5℃；
潔凈度：class100/1000，適用潔凈間；
設(shè)備尺寸：定制
計(jì)時(shí)功能：0~ 99H99M可調(diào)，到溫計(jì)時(shí)，計(jì)時(shí)完成蜂鳴并停止加熱；
降溫方式：可選配
保溫材料：超細(xì)陶瓷纖維；
隔 板：1-10層，；
溫度測(cè)量傳感器：高精度鉑電阻；
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