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做到極致認(rèn)真
致
每一組數(shù)據(jù)
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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級無塵烘箱
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氮?dú)夂嫦洌艹涞嫦?/div>LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）真空無氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱精密烤膠臺，高精度烘膠機(jī)超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
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HMDS真空烘箱，HMDS處理系統(tǒng)中HMDS泄漏處理方法
1.在污染區(qū)尚未完全清理干凈前，限制人員接近該區(qū)。
2.確定清理工作是由受過訓(xùn)練的人員負(fù)責(zé)。
3.穿戴適當(dāng)?shù)膫€(gè)人防護(hù)裝備。
4.對該區(qū)域進(jìn)行通風(fēng)換氣。
環(huán)境注意事項(xiàng)：抽氣通風(fēng)，移走撤離關(guān)閉所有可能之熱源、火星、火花與火焰等之引火源與點(diǎn)火裝置，若大量泄漏時(shí)先將泄漏區(qū)圍堵避免擴(kuò)散。
HMDS清理方法：
少量泄漏時(shí)：以惰性吸收/吸附材料吸取泄漏物。
大量泄漏時(shí)：將泄漏區(qū)域圍堵，小心地道引將泄漏物抽取回收集桶。
雋思HMDS真空烘箱，HMDS處理系統(tǒng)主要用途：
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
HMDS真空烘箱，HMDS處理系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%
輸入功率：2200W
溫度范圍：RT+10℃-250℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動(dòng)度：±1℃
達(dá)到真空度：133Pa（1torr）
工作室尺寸（mm）：450*450*450,550*550*350（可定做）
雋思HMDS真空烘箱，上海雋思HMDS處理系統(tǒng)特點(diǎn)：
1、預(yù)處理性能更好
2、處理更加均勻
3、效率高
4、更加節(jié)省藥液
5、更加環(huán)保和安全
6、低液報(bào)警裝置
7、可自動(dòng)吸取HMDS功能，
8、可自動(dòng)添加HMDS功能，
9、HMDS藥液泄漏報(bào)警功能，
HMDS安全處置與儲存方法：
處置：HMDS易產(chǎn)生靜電，搬運(yùn)時(shí)將所有設(shè)備與容器適當(dāng)接地，并須固定牢固，避免吸入蒸氣及接觸眼睛與皮膚。
存儲：置于陰涼、干燥、通風(fēng)處、緊蓋容器，遠(yuǎn)離各種可能之熱源、火星、火花與火焰等之引火源與點(diǎn)火裝置，避免吸入蒸氣及接觸眼睛與皮膚。
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