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    近些年發(fā)展起來的薄膜鈮酸鋰制備與刻蝕工藝令鈮酸鋰材料重新活躍于集成光學(xué)領(lǐng)域，以鈮酸鋰高速調(diào)制器為代表的一系列集成光學(xué)器件得以發(fā)展。此外，鈮酸鋰的其他光學(xué)性能也十分優(yōu)越，下面從鈮酸鋰晶體性質(zhì)入手，說明為什么它在集成光學(xué)領(lǐng)域極具潛力。

   近日，清華大學(xué)精密儀器系李楊副教授團(tuán)隊在薄膜鈮酸鋰平臺上實(shí)現(xiàn)了集成光學(xué)相控陣?；诒∧も壦徜囯姽庹{(diào)制器，此類集成光學(xué)相控陣有望實(shí)現(xiàn)超高調(diào)制速度、超低能量消耗、低插入損耗。由于該器件能夠?qū)崿F(xiàn)超高掃描速度，在傳統(tǒng)應(yīng)用之外，為其他新應(yīng)用開辟了可能性，例如高密度點(diǎn)云生成和層析全息術(shù)。

  光學(xué)相控陣在激光雷達(dá)、自由空間通信、虛擬現(xiàn)實(shí)（VR）/增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)（AR）、醫(yī)學(xué)掃描成像等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。在以上這些應(yīng)用中，相比機(jī)械轉(zhuǎn)鏡實(shí)現(xiàn)的光束掃描，光學(xué)相控陣能夠提供更長的使用壽命。

   實(shí)現(xiàn)光學(xué)相控陣的方法有：液晶、MEMS、集成光學(xué)，其中集成光學(xué)相控陣能夠利用現(xiàn)代微電子加工工藝，實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。目前主流材料平臺是硅基平臺，在該平臺上，通過熱光或電光相位調(diào)制的方法，能夠?qū)崿F(xiàn)波束發(fā)射角度的偏轉(zhuǎn)。

真空無氧化烘箱

  真空無氧化烘箱用于半導(dǎo)體晶片、半導(dǎo)體封裝和MEMS器件的批量生產(chǎn)。主要用于PI/CPI固化，BCB固化，PBO固化，LCP纖維熱處理。

真空無氧化烘箱技術(shù)性能

溫度范圍：50～300/450℃

升溫速率：1～10℃/m，可調(diào)

降溫時間：≤90min

氧含量性能：≤10ppm 

材料：耐高溫316L不銹鋼

保溫材料：高性能陶瓷纖維

冷卻方式：輔助降溫

操作方式：人機(jī)界面